第一节 供给 分析
一、产量及其增长 分析
2005年，中国电子科技集团公司第48所近日成功研制出国内首台具有自主知识产权的、适用于0.25μm器件特征尺寸、6英寸至8英寸晶圆片平坦化工艺要求的化学机械抛光设备。 该项目的研制成功，填补了我国IC设备制造业0.25μm／6英寸至8英寸晶圆片平坦化设备的空白。
2009年国家将硅片化学机械抛光设备（CMP）列为"十一五"02专项支持项目，中国电子科技集团公司第四十五
研究
所于2009年1月承担了这项光荣而艰巨的科研任务，终于2011年6月研发成功了完全自主知识产权的我国第一台十二英寸单面硅片化学机械抛光设备样机。
二、生产区域结构 分析
目前国内尚未实现产品的规模化生产。
三、
研究
项目情况
我国化学机械抛光设备（CMP）项目 研究 情况
| 项目名称 | 研究 单位 | 进展阶段 |
| 十二英寸硅片化学机械抛光机（CMP）β机研发 | 中国电子科技集团公司第四十五 研究 所 | 研发成功，尚未实现规模化生产 |
第二节 需求市场 分析
一、需求量及其增长 分析
2007-2011年10与中国化学机械抛光设备（CMP）需求量及同比增长
单位：台，美元
| 年份 | 需求量 | 同比增长 | 市场规模 | 同比增长 |
| 2007 | 53 | - | 100654690 |
|
| 2008 | 70 | 32.03% | 69087628 | -31.36% |
| 2009 | 19 | -72.86% | 18369328 | -73.41% |
| 2010 | 130 | 584.21% | 113787447 | 519.44% |
| 2011年1-10月累计 | 166 | 52.30% | 99777377 | 144.19% |
二、需求地域结构
分析
2011年1-10月中国化学机械抛光设备（CMP）进口目的地分布
| 地区 | 数量（台） | 金额（美元） |
| 江苏省 | 66 | 37671437 |
| 北京市 | 14 | 27052161 |
| 上海市 | 52 | 18999639 |
| 湖北省 | 5 | 11615561 |
| 重庆市 | 9 | 2167758 |
| 浙江省 | 4 | 911594 |
| 山东省 | 5 | 670516 |
| 云南省 | 5 | 490384 |
| 四川省 | 4 | 222073 |
| 湖南省 | 1 | 140000 |
| 吉林省 | 1 | 77597 |
| 广东省 | 3 | 52650 |
| 合计 | 169 | 100071370 |
通过2011年1-10月，中国化学机械抛光设备（CMP）进口目的地分布，可以看出，江苏地区是我国化学机械抛光设备（CMP）的最主要消费地区，按数量计算，占全国进口数量的39.05%，按金额计算，占全国进口金额的37.64%。无论是数量还是金额均列于第一位。
三、市场需求影响因素 分析
化学机械抛光设备(CMP)市场需求完全受国内半导体市场的发展影响，化学机械抛光加工是最近十来年发展最快的半导体加工工艺。60%的芯片制备采用化学机械抛光。08年，我国化学机械抛光设备（CMP）需求大幅上涨，到2009年，受全球金融危机影响，半导体产业下滑，导致CMP需求大幅下降，２０１０年我国大半导体产业经过金融危机后强劲复苏，中国的市场增长速度领跑全球产业。据中国半导体 行业 协会之前发布统计数据显示，2010年中国集成电路市场规模达7349.5亿元，同比增长29.5％，是继2005年之后市场增速最快的一年。国际半导体设备材料产业协会（ＳＥＭＩ）近期发布报告指出，2010年全球半导体制造设备销售总额达到395.4亿美元，同比增长幅度创纪录的达到148％，其中增长最快的则是中国内地和韩国市场。
第三节 进出口状况
化学机械抛光设备海关税率
| 商品编码 | 商品名称 | 进口关税率/低 | 进口关税率/普 | 增值税率 |
| 8486104000 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | 0 | 0.3 | 0.17 |
一、进口量值 分析
2007-2011年中国化学机械抛光设备(CMP)进口数量金额统计
单位：台，美元
| 年份 | 数量 | 金额 | 比去年同期±% | |
| 数量 | 金额 | |||
| 2007 | 61 | 100762766 |
|
|
| 2008 | 72 | 69224020 | 18 | -31.3 |
| 2009 | 25 | 18400748 | -65.3 | -73.4 |
| 2010 | 133 | 116832947 | 432 | 534.9 |
| 2011年1-10月累计 | 169 | 100071370 | 50.9 | 12.8 |
2011年1-10月中国化学机械抛光设备(CMP)进口分月统计
单位：台，美元
| 月份 | 数量 | 金额 | 比去年同期±% | |
| 数量 | 金额 | |||
| 1 | 13 | 1391842 | 225 | 192.4 |
| 2 | 7 | 4386128 | 40 | 751.6 |
| 3 | 22 | 19323150 | 175 | 259.4 |
| 4 | 5 | 5408117 | -78 | 304.7 |
| 5 | 19 | 29155054 | 280 | 202 |
| 6 | 17 | 10095378 | 113 | 153.9 |
| 7 | 25 | 9159600 | 150 | -65.6 |
| 8 | 12 | 10059414 | -20 | -28.7 |
| 9 | 41 | 6571772 | 173 | -55.2 |
| 10 | 8 | 4520915 | -58 | -62.2 |
| 合计 | 169 | 100071370 | 50.9 | 12.8 |
二、出口量值 分析
2007-2011年中国化学机械抛光设备(CMP)出口数量金额统计
单位：台，美元
| 年份 | 数量 | 金额 | 比去年同期±% | |
| 数量 | 金额 | |||
| 2007 | 8 | 108076 |
|
|
| 2008 | 2 | 136392 | -75 | 26.2 |
| 2009 | 6 | 31420 | 200 | -77 |
| 2010 | 3 | 3045500 | -50 | 9592.9 |
| 2011年1-10月累计 | 3 | 293993 | 0 | -90.3 |
2011年1-10月中国化学机械抛光设备(CMP)出口分月统计
单位：台，美元
| 月份 | 数量 | 金额 | 比去年同期±% | |
| 数量 | 金额 | |||
| 7 | 1 | 228347 | 0 | 0 |
| 8 | 2 | 65646 | 0 | 0 |
| 9 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| 10 | 0 | 0 | -100 | -100 |
| 合计 | 3 | 293993 | 0 | -90.3 |
三、进出口国家分布
2011年1-10月中国化学机械抛光设备(CMP)进口国家或地区按金额排名
单位：台，美元
| 排名 | 国家 | 数量 | 金额 | 比去年同期±% | |
| 数量 | 金额 | ||||
| 1 | 美国 | 63 | 59271990 | 6.8 | -13 |
| 2 | 日本 | 25 | 16865259 | 92.3 | 82.6 |
| 3 | 新加坡 | 4 | 16168769 | 33.3 | 260 |
| 4 | 台湾 | 49 | 4502716 | 250 | 81.3 |
| 5 | 韩国 | 20 | 2803574 | 42.9 | 147 |
| 6 | 德国 | 4 | 252000 | 33.3 | -63 |
| 7 | 英国 | 3 | 186762 | -25 | -39 |
| 8 | 丹麦 | 1 | 20300 | 0 | 121 |
| 合计 | 169 | 100071370 | 50.9 | 12.8 | |
2011年1-10月中国化学机械抛光设备(CMP)出口国家或地区按金额排名
单位：台，美元
| 排名 | 国家 | 数量 | 金额 | 比去年同期±% | |
| 数量 | 金额 | ||||
| 1 | 土耳其 | 1 | 228347 | 0 | 0 |
| 2 | 香港 | 1 | 61116 | 0 | 0 |
| 3 | 美国 | 1 | 4530 | 0 | 0 |
| 合计 | 3 | 293993 | 0 | -90.3 | |
四、进出口海关分布
2011年1-10月中国化学机械抛光设备(CMP)进口海关按金额排名
单位：台，美元
| 排名 | 口岸 | 数量 | 金额 | 比去年同期±% | |
| 数量 | 金额 | ||||
| 1 | 南京海关 | 55 | 36727437 | 120 | -19.5 |
| 2 | 北京海关 | 11 | 26682661 | 57.1 | 119.6 |
| 3 | 上海海关 | 66 | 20293639 | 61 | 102.6 |
| 4 | 武汉海关 | 5 | 11615561 | 66.7 | 42.5 |
| 5 | 重庆海关 | 9 | 2167758 | 80 | 89.9 |
| 6 | 青岛海关 | 5 | 670516 | -37.5 | -80.6 |
| 7 | 宁波海关 | 1 | 561594 | 0 | 0 |
| 8 | 黄埔海关 | 5 | 490384 | 400 | -19.3 |
| 9 | 天津海关 | 4 | 410600 | -42.9 | -91.4 |
| 10 | 成都海关 | 4 | 222073 | 0 | 0 |
| 11 | 长沙海关 | 1 | 140000 | 0 | 0 |
| 12 | 长春海关 | 1 | 77597 | 0 | 0 |
| 13 | 深圳海关 | 2 | 11550 | 0 | 0 |
| 合计 | 169 | 100071370 | 50.9 | 12.8 | |
2011年1-10月中国化学机械抛光设备(CMP)出口海关按金额排名
单位：台，美元
| 排名 | 口岸 | 数量 | 金额 | 比去年同期±% | |
| 数量 | 金额 | ||||
| 1 | 北京海关 | 1 | 228347 | 0 | 0 |
| 2 | 上海海关 | 2 | 65646 | 0 | 0 |
| 合计 | 3 | 293993 | 0 | -90.3 | |
第四节 供需平衡 分析
目前国内化学机械抛光设备(CMP)完全依赖进口，虽然国内已经研发成功，但实现产业化及市场推广尚需时日，并且国外老牌企业的市场非常稳固，国产设备在市场占有率的取得上面需要多费功夫。
免责申明：本文仅为中经纵横
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